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实验浏览量:553

真空镀膜技术制备半导体功能器件(OLED、OSC)虚拟仿真实验系统

本次实验用时:0时0分

  • 实验台

实验报告内容

实 验 报 告

项目名称:
学院名称:
专业班级:
学生姓名:
学 号:
实验日期:

实验成绩

指导老师

【实验目的】

【实验仪器】

【实验原理】

【实验数据记录以及实验结果】

OLED 器件制备参数记录表

OLED器件

设计结构

功能层所用材料的参数

磁控溅射ITO薄膜参数

真空室

本底压强(Pa)

氩气流量(×1.41ml/min)

氧气流量

(×0.99ml/min)

溅射薄膜

工作压强(Pa)

磁控溅射功率(W)

(射频源效率85%)

磁控溅射

制备薄膜时间(min)

ITO薄膜

热处理温度(℃)/时间(min)

旋涂仪旋涂功能层薄膜

旋涂材料1

薄膜厚度(nm)

旋涂仪转速(rpm)

旋涂材料2

溶液浓度(ml/mg)

薄膜厚度(nm)

旋涂仪转速(rpm)

热蒸发功能层薄膜参数

真空室

本底压强(Pa)

功能层材料1

热蒸发功能层

材料1温度(℃)

热蒸发功能层

材料1厚度(nm)

功能层材料2

热蒸发功能层材料2无机蒸发电源(V)/电流(A)

热蒸发功能层

材料2厚度(nm)

真空室

本底压强(Pa)

功能层材料3

热蒸发电极材料

无机蒸发电源(V)

热蒸发电极材料无机蒸发电流(A)

实验结果

磁控溅射法制备ITO薄膜电阻(Ω/¨)

OLED器件性能测量(测试数据中选取20组数据)

组数

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

电压

电流

亮度

组数

11

12

13

14

15

16

17

18

19

20

电压

电流

亮度

开启电压/V

(最大)

发光亮度cd/m2

(最大亮度)

电流密度A/m2

(电流效率)

发光效率(cd/A)

器件性能分析(从数据、曲线、特征参数等方面简要分析)

OSC器件制备参数记录表

OSC器件

设计结构

功能层所用材料的参数

磁控溅射ITO薄膜参数

真空室

本底压强(Pa)

氩气流量

(×1.41ml/min)

氧气流量

(×0.99ml/min)

溅射薄膜

工作压强(Pa)

磁控溅射功率(W)

(射频源效率85%)

磁控溅射

制备薄膜时间(min)

ITO薄膜

热处理温度(℃)/时间(min)

旋涂仪旋涂功能层薄膜

旋涂材料1

旋涂仪转速(rpm)

薄膜厚度(nm)

旋涂材料2

溶液浓度(ml/mg)

薄膜厚度(nm)

旋涂仪转速(rpm)

热蒸发功能层薄膜参数

真空室

本底压强(Pa)

功能层材料1

热蒸发功能层材料2无机蒸发电源(V)/电流(A)

热蒸发功能层

材料1厚度(nm)

真空室

本底压强(Pa)

功能层材料2

热蒸发电极材料

无机蒸发电源(V)

热蒸发电极材料无机蒸发电流(A)

实验结果

磁控溅射法制备ITO薄膜电阻(Ω/¨)

OSC器件性能测量(测试数据中选取20组数据)

组数

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

电压

电流

组数

11

12

13

14

15

16

17

18

19

20

电压

电流

开路电压

(Voc)/V

短路电流(ISC)/mA

填充因子(FF)

效率(η%)

器件性能分析(从数据、曲线、特征参数等方面简要分析)

【数据曲线图】

【实验心得体会】

【实验错误步骤】

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